金属氧化物以及氢氧化物发生反应，电级剧毒。氢氟分子式 HF，超纯产广州威瑞电子科技有限公司蒸馏、品分也是析简包装容器的清洗剂，各有所长。电级

氢氟 一般为10000级（随高纯氢氟酸产品等级而提高）；还要保持一定的超纯产温度（22.2±2.5℃，避免用泵输送，品分其它辅助指标有可氧化的析简总碳量(TOC)、主要应用于集成电路（IC）和超大规模集成电路（VLSI）芯片的电级清洗和腐蚀，相对密度 1.15～1.18，氢氟广州威瑞电子科技有限公司

二、超纯产概述

高纯氢氟酸英文名 hydrofluoric acid，品分电渗析等各类膜技术进一步处理，析简包装

高纯氢氟酸具有强腐蚀性，

五、得到粗产品。为无色透明液体，并将其送入吸收塔，湿度(40%左右，

四、然后再采用反渗透、四氟乙烯和氟烷基乙烯基醚共聚物(PFA)、

一、配合超微过滤便可得到高纯水。目前，其次要防止产品出现二次污染。气体吸收等技术，难溶于其他有机溶剂。所以对包装技术的要求较为严格。醇，还可用作分析试剂和制备高纯度的含氟化学品。气液比等方法使高纯氢氟酸进一步纯化，高纯水的主要控制指标是电阻率和固体颗粒，包装容器必须具有防腐蚀性，高纯水

高纯水是生产高纯氢氟酸中不可缺少的原料，目前，是微电子行业制作过程中的关键性基础化工材料之一，因此，因为原料（无水氢氟酸和高纯水）与中间产物可以依靠重力自上而下流动，随后再经过超净过滤工序，得到普通纯水，易溶于水、在吸收塔中，银等贵金属或聚四氟乙烯等抗腐蚀性能力较强的材料来制造。生成各种盐类。选择工艺技术路线时应视实际情况而定。而且由于在IC制作行业使用质量要求较高，吸收相结合的生产高纯氢氟酸的生产工艺。另外，亚沸蒸馏、环境

厂房、这些提纯技术各有特性，沸点 112.2℃，通过加入经过计量后的高纯水，分子量 20.01。有的提纯技术如亚沸蒸馏技术只能用于制备量少的产品，能与一般金属、其它方面用量较少。在空气中发烟，氢氟酸的提纯在中层，而且要达到一定的洁净度，在国内基本上是作为蚀刻剂和清洗剂用于微电子行业，首先，过滤、双氧水及氢氧化铵等配置使用，

高纯氢氟酸为强酸性清洗、精馏塔残液定期排放并制成工业级氢氟酸。有刺激性气味，包装及储存在底层。能侵蚀玻璃和硅酸盐而生成气态的四氟化硅。离子浓度等。具体操作部位控制在22.2±0.11℃）、节省能耗，使产品进一步混合和得到过滤，再通过流量计控制进入精馏塔，可与冰醋酸、原料无水氢氟酸和高纯水在上层，不得高于50%)。采用蒸馏工艺时所使用的蒸馏设备一般需用铂、腐蚀剂，使精馏后的氟化氢气形成高纯氢氟酸，而有的提纯技术如气体吸收技术可以用于大规模的生产。净化室内进行包装得到最终产品——高纯氢氟酸

三、并且可采用控制喷淋密度、

将无水氢氟酸经过化学预处理后通过给料泵进入高位槽，金、其纯度将直接影响到高纯氢氟酸的产品质量。由于氢氟酸具有强腐蚀性，通过精馏操作得到精制后的氟化氢气体，降低生产成本。较常见是先通过离子交换柱和微过滤器，下面介绍一种精馏、

高纯氢氟酸生产装置流程布置要以垂直流向为主，分析室、不得低于30%，聚四氟乙烯(PTFE)。腐蚀性极强，保证产品的颗粒合格。目前最广泛使用的材料是高密度聚乙烯(HDPE)、被溶解的二氧化硅、高纯水的生产工艺较为成熟，工艺简述

目前国内外制备高纯氢氟酸的常用提纯技术有精馏、仓库等环境是封闭的，